-
Zakázkové zpracování keramického upínacího pouzdra Al2O3
Keramické náhradní díly, vyrobené izostatickým lisováním za studena a spékané za vysoké teploty, následně přesně obráběné a leštěné, splňují všechny přísné požadavky na polovodičová zařízení díky svým vlastnostem odolnosti proti opotřebení, korozi, nízké tepelné roztažnosti a izolaci. Keramika může dlouhodobě fungovat v mnoha druzích zařízení na výrobu polovodičů za podmínek vysoké teploty, vakua nebo korozivního plynu.
Vyrobeno z vysoce čistého práškového oxidu hlinitého, zpracovaného izostatickým lisováním za studena, slinováním za vysoké teploty a přesnou konečnou úpravou, dosahuje tolerance rozměrů ±0,001 mm, povrchové úpravy Ra 0,1 a teplotní odolnosti 1600 ℃.
-
Keramická deska pro polovodičová zařízení ST.CERA na míru
Keramické náhradní díly, vyrobené izostatickým lisováním za studena a spékané za vysoké teploty, následně přesně obráběné a leštěné, splňují všechny přísné požadavky na polovodičová zařízení díky svým vlastnostem odolnosti proti opotřebení, korozi, nízké tepelné roztažnosti a izolaci. Keramika může dlouhodobě fungovat v mnoha druzích zařízení na výrobu polovodičů za podmínek vysoké teploty, vakua nebo korozivního plynu.
Vyrobeno z vysoce čistého práškového oxidu hlinitého, zpracovaného izostatickým lisováním za studena, slinováním za vysoké teploty a přesnou konečnou úpravou, dosahuje tolerance rozměrů ±0,001 mm, povrchové úpravy Ra 0,1 a teplotní odolnosti 1600 ℃.
-
12palcový vakuový upínač z oxidu hlinitého pro zpracování 300mm destiček
12palcový vakuový upínač St.Cera je přesně vyroben z 99,8% vysoce čistého oxidu hlinitého (Al₂O₃) pro manipulaci s wafery o průměru 300 mm. Upínač má jemně drážkovaný povrch (šířka drážky 0,5–1,0 mm, rozteč 2–3 mm), který zajišťuje rovnoměrné rozložení vakua po celém průměru 300 mm. Rovinnost je udržována v rozmezí 5 μm, což umožňuje bezdeformační fixaci waferu během řezání, broušení zadní strany a kontroly. Vysoká pevnost v ohybu (361 MPa) a tvrdost (16 GPa) materiálu zaručují dlouhodobou rozměrovou stabilitu i při opakovaných vakuových cyklech.
-
Keramické náhradní díly pro polovodičové sondy
Keramické náhradní díly, vyrobené izostatickým lisováním za studena a spékané za vysoké teploty, následně přesně obráběné a leštěné, splňují všechny přísné požadavky na polovodičová zařízení díky svým vlastnostem odolnosti proti opotřebení, korozi, nízké tepelné roztažnosti a izolaci. Keramika může dlouhodobě fungovat v mnoha druzích zařízení na výrobu polovodičů za podmínek vysoké teploty, vakua nebo korozivního plynu.
Vyrobeno z vysoce čistého práškového oxidu hlinitého, zpracovaného izostatickým lisováním za studena, slinováním za vysoké teploty a přesnou konečnou úpravou, dosahuje tolerance rozměrů ±0,001 mm, povrchové úpravy Ra 0,1 a teplotní odolnosti 1600 ℃.
-
Nosič polovodičového zařízení s keramickou deskou
Keramické náhradní díly, vyrobené izostatickým lisováním za studena a spékané za vysoké teploty, následně přesně obráběné a leštěné, splňují všechny přísné požadavky na polovodičová zařízení díky svým vlastnostem odolnosti proti opotřebení, korozi, nízké tepelné roztažnosti a izolaci. Keramika může dlouhodobě fungovat v mnoha druzích zařízení na výrobu polovodičů za podmínek vysoké teploty, vakua nebo korozivního plynu.
Vyrobeno z vysoce čistého práškového oxidu hlinitého, zpracovaného izostatickým lisováním za studena, slinováním za vysoké teploty a přesnou konečnou úpravou, dosahuje tolerance rozměrů ±0,001 mm, povrchové úpravy Ra 0,1 a teplotní odolnosti 1600 ℃.
-
Keramické náhradní díly pro polovodičová zařízení
Keramické náhradní díly, vyrobené izostatickým lisováním za studena a spékané za vysoké teploty, následně přesně obráběné a leštěné, splňují všechny přísné požadavky na polovodičová zařízení díky svým vlastnostem odolnosti proti opotřebení, korozi, nízké tepelné roztažnosti a izolaci. Keramika může dlouhodobě fungovat v mnoha druzích zařízení na výrobu polovodičů za podmínek vysoké teploty, vakua nebo korozivního plynu.
Vyrobeno z vysoce čistého práškového oxidu hlinitého, zpracovaného izostatickým lisováním za studena, slinováním za vysoké teploty a přesnou konečnou úpravou, dosahuje tolerance rozměrů ±0,001 mm, povrchové úpravy Ra 0,1 a teplotní odolnosti 1600 ℃.
-
Vysoce čistý keramický těsnicí kroužek z oxidu hlinitého pro utěsnění komory za vysokých teplot
Keramický těsnicí kroužek St.Cera je navržen jako alternativa k polymerním O-kroužkům v extrémních prostředích, kde dochází k degradaci elastomeru. Tento pevný těsnicí kroužek, vyrobený z 99,8% vysoce čistého oxidu hlinitého (Al₂O₃), se používá ve statických těsnicích aplikacích – obvykle v kombinaci s měkkým kovovým nebo grafitovým těsněním – k zajištění spolehlivého vakua nebo zadržení plynu při teplotách až 800 °C a v agresivním plazmovém nebo chemickém prostředí. Materiál nabízí nulové uvolňování plynů, vysokou pevnost v tlaku (základní pevnost v ohybu 361 MPa) a chemickou inertnost (odolný vůči halogenům, kyselinám a zásadám s výjimkou HF). Přesně lapované těsnicí plochy (rovnost ≤ 5 μm, drsnost povrchu Ra ≤ 0,2 μm) zajišťují těsný kontakt s kovovými nebo keramickými součástmi.
-
Zaostřovací kroužek z vysoce čistého oxidu hlinitého pro systémy plazmového leptání a CVD
Zaostřovací kroužek komory St.Cera je klíčovou součástí procesní sady používané v zařízeních pro plazmové leptání, CVD a PVD polovodičů. Kroužek, vyrobený z 99,8% vysoce čistého oxidu hlinitého (Al₂O₃), obklopuje okraj destičky, aby omezil plazma a optimalizoval úhlové rozložení iontů, čímž zlepšuje rovnoměrnost leptání po celém povrchu destičky. Materiál nabízí výjimečnou odolnost vůči plazmatu, vysokou dielektrickou pevnost (15×10⁶ V/m) a tepelnou stabilitu až do 1600 °C, což zajišťuje dlouhodobou spolehlivost v agresivním plazmovém prostředí na bázi fluoru nebo chloru. Přesně broušený vnitřní/vnější průměr a rovinnost (≤10 μm) umožňují přesné polohování okrajů destičky, čímž se snižují defekty na okrajích a generování částic.
-
Vysoce čistý keramický kroužek z oxidu hlinitého pro procesní komory CVD/PVD
Keramický kroužek od společnosti St.Cera je speciálně navržen pro použití v procesních komorách CVD (chemická depozice z plynné fáze) a PVD (fyzikální depozice z plynné fáze). Tento kroužek, vyrobený z 99,8% vysoce čistého oxidu hlinitého (Al₂O₃), slouží jako vložka komory, zaostřovací kroužek nebo součást procesní sady k omezení plazmatu a ochraně stěn komory před erozí. Materiál nabízí vynikající odolnost vůči plazmatu, vysokou dielektrickou pevnost (15×10⁶ V/m) a tepelnou stabilitu až do 1600 °C, což zajišťuje dlouhou životnost v agresivním prostředí plazmatu na bázi fluoru. Přesné rozměrové tolerance (±0,05 mm na vnitřním/vnějším průměru) a rovinnost (≤10 μm) umožňují konzistentní polohování hran destičky, zlepšují rovnoměrnost depozice a snižují tvorbu částic.
-
Porézní keramický vakuový upínač pro manipulaci s deformovanými destičkami
Porézní keramický upínač St.Cera je vyroben z vysoce čistého oxidu hlinitého s rovnoměrnou otevřenou pórovitostí 30–45 % a velikostí pórů od 10 do 100 μm. Na rozdíl od konvenčních drážkovaných upínačů poskytuje porézní povrch rozložené vakuum po celé zadní straně destičky a účinně drží deformované, tenké nebo jednotlivé destičky bez odlepování nebo lámání hran. Jemné vakuum (nastavitelné pomocí omezovače) také zabraňuje vzniku stop na zadní straně.
-
Porézní keramický vakuový upínač na bázi oxidu hlinitého pro manipulaci s tenkými destičkami
Porézní upínací pouzdro St.Cera na bázi oxidu hlinitého je vyrobeno z 99,6 % vysoce čistého Al₂O₃ s řízenou otevřenou pórovitostí 30–45 % a rovnoměrnou velikostí pórů v rozmezí od 10 do 50 μm. Na rozdíl od drážkovaných upínacích pouzder poskytuje porézní povrch rozložené vakuum po celé zadní straně destičky, čímž eliminuje vytváření značek na okrajích a umožňuje jemné uchycení ultratenkých (≤100 μm) nebo deformovaných destiček. Materiál nabízí pevnost v ohybu ≥250 MPa a tepelnou stabilitu až do 400 °C na vzduchu.
-
Deska pro rozdělování plynu z oxidu hlinitého pro sprchovou hlavici CVD/PVD
Deska pro distribuci plynu (sprchová hlavice) od společnosti St.Cera je přesně vyrobena z vysoce čisté keramiky z oxidu hlinitého s obsahem 99,8 %. Je vybavena řadou mikrootvorů (o průměru 0,3–1,5 mm), které zajišťují rovnoměrný tok plynu po povrchu destičky během procesů CVD, PVD nebo ALD. Vysoká dielektrická pevnost destičky (>15×10⁶ V/m) a odolnost vůči plazmatu z ní činí nezbytnou součást depozice tenkých vrstev polovodičů.
